書誌情報

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資料の種別 図書 資料情報のコピー
タイトル よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み  
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副書名 シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰
微細化の課題
著者名等 佐藤/淳一‖著
版次 第4版
出版者 秀和システム/東京
出版年 2020.9
ページと大きさ 255p/21cm
シリーズ名 図解入門
Visual Guide Book
件名 半導体
分類 NDC8 版:549.8
NDC9 版:549.8
NDC10版:549.8
ISBN 978-4-7980-6245-7
価格 ¥1900
タイトルコード 1101239213
内容紹介 ウェーハから半導体ファブ、前工程、後工程まで、半導体のプロセスの全てを俯瞰できるように、わかりやすいイメージの図や表を交えて解説。歴史的経緯にもふれる。新章「CMOSのプロセスフロー」を加えた第4版。
著者紹介 京都大学大学院工学研究科修士課程修了。テクニカルライターとして活動。応用物理学会員。著書に「よくわかる最新半導体製造装置の基本と仕組み」など。
ヨミの情報 タイトル:ヨク/ワカル/サイシン/ハンドウタイ/プロセス/ノ/キホン/ト/シクミ
著者名:サトウ,ジュンイチ
件名: ハンドウタイ

貸出情報

貸出可能な資料 貸出中の資料 館内でのみ利用可能な資料 予約数
貸出可能な資料
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貸出中の資料
1 冊
館内でのみ利用可能な資料
0 冊
予約数
0 件
番号 資料番号 所蔵館 配架場所(配架案内) 請求記号 状態
1
資料番号:
1011938972
所蔵館:
宮城県図書館
配架場所:
一般開架図書(3階)(3階一般開架資料です)
請求記号:
549.8 
209 
 
状態:
貸出
このページのURL:https://www.library.pref.miyagi.jp/wo/opc_srh/srh_detail/1101239213
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